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30年!10nm国产光刻机有望实现,“中国芯”不再是梦!

对于大部分科技厂商来说,芯片是电子设备的核心,意义不亚于心脏对我们的意义,不过碍于中国科技起步晚,而外国势力不断区别对待中国,封锁一系列的技术,所以中国在半导体,芯片和内存方面强烈依赖进口,即便是现在我们津津乐道的小米OV也强烈依赖高通芯片,而屏幕又依赖三星,即便是华为也做不到完全自主原创,最近公布的华为供应链厂商名单中,历历在目的出现了33家供应商,其中高通intel都是合作伙伴,很多时候还是国产“无芯”惹的祸!

这个时候有人问,中国科技发展速度那么快,是全球第二大的经济体,高楼大厦航空母舰都能做出来,为什么一个指甲盖大小的芯片做不出来?很多人带着疑问对科技厂商是指手画脚,认为国内科技发展太滞后,其实不然,全球范围内目前极少数的国际具备制造芯片的能力,intel,高通都是美国的,芯片的制造要强烈依托于光刻机技术,光刻机是制造芯片的核心设备,具备很高的科技含量并且是非卖品,所以不是有钱就能买到光刻机的,目前荷兰ASML垄断了这个市场,三星苹果都要礼让三分。

而中国在落后西方国家30年的科技发展的背景下,已经进入了正规,进入了一个高速发展的阶段,不过在芯片上还是没有一个完全意义上的“中国芯”,华为麒麟芯片也是由台积电代工,而台积电也是为数不多的全球芯片代工厂,为苹果高通华为代工芯片,台积电也有是采购来自ASML的光刻机,因为ASML的光刻机量产难度极大,所以处于供不应求的状态,加上一些西方势力影响,中国一直没有能够在芯片上实现突破性进展,芯片工业很滞后。

不过一切都要发生改变了,制约我们30年之久的芯片产业迎来了春天,近日,中国自主研发的光刻机迎来了好消息,自主研发的超分辨光刻装备已经能偶为纳米器材做技术支持,该国产光刻机是由中国科学院研制,目前能实现365纳米光源波长下,实现22纳米的制程,未来通过双重曝光功能,有望实现制造10nm的芯片,也就是说中国光刻机未来将进入10nm制程,有望提前实现技术突破,慢慢拉近和国际芯片大厂的差距,当然这个技术和国际市场的ASML的光刻机存在一定差距,未来还有很长的路要走。

如此以来,中国也逐渐进入了10nm光刻机时代,未来不用再看外国很厂商的脸色,告别技术垄断,一颗真正原创的中国芯马上要到来了,为了这一天我们足足等了30年,不过中国正在以顽强的毅力证明自己,华为海思已经成为亚洲第二芯片大厂,而中国目前具备生产22nm芯片的实力,10nm光刻机未来马上要来了,你们感到骄傲吗?

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来源:推哥科技爆料 编辑:科技

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