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导读：反转来了！23种核心设备全部国产替代，外媒：日本被现实教训了

众所周知，这几年老美一直都在对我国华为等中企进行打压和制裁，在进入到2023年以后，老美为了进一步的阻拦中企在科技领域的发展，还联合日本、荷兰一起组成了联盟，并签订三方协议，想要进一步的限制光刻机等半导体制造设备的出口，在老美的施压下，日本和和荷兰也都已经做出了行动！

荷兰方面已经明确表示将遵守美国协议内容，限制DUV光刻机的出货，但是很快荷兰ASML公司就表示，并不是所有的DUV光刻机的出货都会被限制，还有落后一代的TWINSCANNXT:1980Di及以下的DUV设备依然可以出货，也就说荷兰实际上还是给ASML公司留了后路的！

而日本方面的做法就比较绝了，日本已经决定，要对23项半导体设备的出口进行严格的限制计划，其中不仅包括光刻机，还有光刻胶、蚀刻机、清洗机、检测设备等等；可以说日本的限制范围几乎涵盖了所有的半导体设备领域，而日本这样做无疑也是为了给美国表忠心，唯美国是从。值得一提的是，反转很快就来了，23种核心设备全部国产替代，外媒纷纷表示：日本后悔不已！

要知道，日本虽然没有台积电、三星这样的半导体生产巨头企业，也没有像荷兰ASML公司一样实力强悍的光刻机巨头企业，但是日本在半导体生产设备领域的实力还是比较强的，如果离开了日本，那么全球半导体也将陷入停滞，所以日本在半导体领域的综合实力还是比较强大的；但让日本也没有料到的是，反转来的太快，这几年在老美的极限打压之下，我国的科技企业早已经加快了自研的步伐，而日本执意限制23种核心设备的出货，那么也将让国内逐步实现国产替代！

这几年在国内科技企业的不断努力下，我们已经在刻蚀设备、光刻设备、薄膜沉积设备、测试设备等半导体生产设备领域取得了一定的突破，而这些领域也都是日本限制的对象，在国产科技企业长期发展目标的驱动下，我们也将逐步实现日本限制的23项设备的国产替代，像国内的北方华创、拓荆科技已经在薄膜沉积设备领域实现了产业化和商用，而在清洗设备领域，国内的至纯科技也已经做到了28nm工艺；另外在蚀刻机领域，国内更是已经做到了5nm工艺，如果日本设备被限制，那么国内的设备也将实现替代！

最值得一提的是，中国是全球最大的生产制造基地，同时也是全球最大的半导体芯片消费市场，这些年来日本半导体设备有一大半以上都出口到了大陆市场，而现在日本却对大陆市场的出货进行限制，那么也将让日本半导体企业损失惨重；另外在我们实现国产化替代以后，那么日本的半导体设备也将失去全球最大的市场，可以说日本限制23种核心设备以后，很快就被现实打脸了，日企是离不开大陆市场的，这也正如外媒所说：现在的日本后悔不已！

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